* 不純物の添加 [#w505872f]
-ページ: [[公開制作/真性・外因性半導体]]
-投稿者: [[トミー]]
-カテゴリー: その他
-状態: 提案
-投稿日: 2005-11-05 (土) 00:09:25
** メッセージ [#g86bc320]
ふと思ったのですが、半導体工学を専門に勉強していない人にとって、「不純物の添加」というのはどういう風に捉えられているんでしょうか。この公開記事には、不純物の話がたくさん出てくることになるかと思いますが、この記事の前に不純物を添加するとはどういうことなのか、正孔はどうして生じるのか、などの記事も書くことにしてはいかがでしょうか。
** 返答 [#p43f1f84]
-私が言っていることが、篠原さんの「導入編」という提案と一致しているのなら、問題ありません。もしそうなら、同じカテゴリーを二つも作ってしまい、申し訳ありません。 -- [[トミー]] &new{2005-11-05 (土) 00:13:44};
-「不純物」と聞いて、普通の人はシリコンに対して10％とか、不純物を入れて合金を作るようなイメージを持っているかもしれませんね。実際には、これより何桁も低い濃度で不純物を添加するということを説明したほうが良いかもしれないですね。「導入編」でも良いですし。もちろん、不純物ドープに伴い正孔や電子が生じることも書いたほうがよいと思います。 -- [[篠原]] &new{2005-11-05 (土) 00:46:38};
#comment
#br
#topicpath
公開制作/真性・外因性半導体/2 のバックアップソース(No.7)
